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化学工業ナトリウム亜ジチオン酸塩のための二重円錐回転式円錐形の真空のドライヤー機械

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x金属材料 | SUS316/SUS304/の炭素鋼、等 | 暖房源 | 蒸気/熱湯/熱オイル |
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温度 | 100-300℃ | Vacuume | カスタマイズされる |
密度 | カスタマイズされる | 真空の程度 | カスタマイズされる |
ハイライト | 真空の噴霧乾燥器,真空の回転乾燥器,二重円錐回転真空のドライヤー |
ナトリウムの亜ジチオン酸塩 SZGシリーズ薬剤の粉の化学工業(真空の二重円錐形のドライヤー) (真空機械)のための二重円錐回転真空の乾燥機械(円錐乾燥機械)
二重円錐回転の真空のドライヤーは混合する真空のために適して、製薬産業、化学工業、食糧企業等のそれはの粉および微粒の原料の乾燥次の条件がある原料のために適しています:
1. 感熱原料
2. 酸化すること容易な原料および危ない
3. 回復するために溶媒および有毒ガスが必要である原料
4. 水晶形のための特別な条件がある原料
5. 残りの揮発性の内容のための特別な条件がある原料。
記述
二重先を細くすることの真空のドライヤーは同じプロダクトの技術の結合に基づいて私達の工場によってdeceloped新しい世代乾燥装置です。それに2つのcoonnecting方法、すなわち滑車か鎖があります。従ってそれはstaftsのreailzeのよい同心性です。熱媒体および真空システムはすべて信頼できる機械類のシールを合わせますまたはUSA.Onからなされた回転接合箇所基礎、私達はまたSZG-A.Itをstepless速度の変更およびconastant温度調整を遂行してもいいです開発しました。
適用
二重円錐回転の真空のドライヤーは低温で集中し、混合し、乾燥する必要がある原料のために適しています(例えば、化学、pharmceuticalおよび食糧工業の生物化学プロダクト。特にそれは強い感熱およびtoxityを酸化させ、揮発させ、持って容易および乾燥の水晶を破壊するために割り当てられなくての原料のために適しています。
モデル | 100 | 350 | 500 | 750 | 1000 | 1500 | 2000年 | 3500 | 4500 | 5000 |
名前 | ||||||||||
タンク(L)のの中の容積 | 100 | 350 | 500 | 750 | 1000 | 1500 | 2000年 | 3500 | 4500 | 5000 |
実用的な負荷の容積(L) | ≤50 | ≤175 | ≤250 | ≤375 | ≤ 500 | ≤750 | ≤1000 | ≤1750 | ≤2250 | ≤2500 |
回転式速度(r.p.m.) | 3~13 | 6 | 5 | 4 | 4 | 4 | ||||
モーター(kw)の力 | 0.75 | 1.1 | 1.5 | 2.2 | 3 | 4 | 5.5 | 7.5 | 11 | 15 |
占領地域、LxW (mm) |
2160 x800 |
2260 x800 |
2350 x800 |
2560 x1000 |
2860 x1300 |
3060 x1300 |
3260 x1400 |
3760 x1800 |
3960 x2000 |
4400 x2500 |
回転高さ(mm) | 1750 | 2100 | 2250 | 2490 | 2800 | 2940 | 2990 | 3490 | 4100 | 4200 |
タンク(MPa)のの中の設計圧力 | -0.1~0.15 | |||||||||
ジャケット(MPa)の設計圧力 | ≤0.3 | |||||||||
働く温度(°C) | (tank≤85) (jacket≤140で) | |||||||||
真空ポンプのモデルそして力 | SK-0.4 | SK-0.4 | SK-0.8 | SK-1.5 | SK-1.5 | SK-3 | SK-6 | SK-6 | SK-9 | SK-12 |
1.5KW | 1.5KW | 2.2KW | 4KW | 4KW | 5.5KW | 11KW | 11KW | 15KW | 18.5KW | |
重量(kg) | 800 | 1100 | 1200 | 1500 | 2800 | 3300 | 3600 | 6400 | 7500 | 8600 |
特徴:
オイルが熱するのに使用されている時自動一定した温度を制御するのに使用するため。それは乾燥の生物学プロダクトおよび鉱山に使用することができます。
操作のその温度は調節された形態20 -160℃である場合もあります。順序のドライヤーと比較されて、熱効率は2倍より高くです。熱は間接です。従って原料は汚すことができません。
それはGMPの条件に従ってあります。それは洗浄および維持で容易です。
電子システムおよび安全は21 CFRの部11およびGMPの別館11で述べられる条件に従うべきです;
データは適切な時間間隔で集められ、プリントアウトされ/読むことができる固定長形式のシステムで貯えられるべきです;
(溶媒)原料の絶えず浸透し、蒸発し、そして排出します。3つのプロセスは絶え間なく遂行され、乾燥の目的はある場合もあります
近いうちに実現される。